В обозримом будущем в России может начаться производство литографических материалов для выпуска микроэлектроники. С этой целью Минпромторг заказал научно-исследовательскую работу «Разработка и освоение производства литографических материалов для микроэлектронного производства».
Любопытно, но у этой работы есть даже кодовое наименование — «Фотолиз». Выбрано оно не случайно и обусловлено прекращением импорта фоторезисторов и антиотражающих покрытий из-за многочисленных санкций со стороны США. Они использовались в производстве интегральных схем.
Исполнитель работ еще не определен. Тендер опубликован 14 февраля и имеет формат открытого конкурса. Итоги будут подведены 9 марта. В тексте документа указаны и будущие потребители литографических материалов: АО «Микрон» и ООО «НМ-Тех». Научно-исследовательская работа должна быть готова к 12 декабря 2025 года. На эти цели Минпромторг выделил 1,1 млрд рублей.
В конечном итоге заказчик должен получить не только результаты теоретических работ в области производства фоторезисторов и антиотражающих покрытий, но и результаты испытаний опытных партий продукции. Также в рамках НИР ее исполнитель должен освоить массовое производство материалов. Использование в производственном процессе иностранных материалов и компонентов должно согласовываться с Минпромторгом.
